এলডিপিই এবং এইচডিপিই থেকে বিভিন্ন উপাদান

এইচডিপিই এবং এলডিপিই উপকরণগুলির মধ্যে পার্থক্য এবং তুলনা

উত্পাদন পদ্ধতি

-এইচডিপিই: এটি তরল-পর্বের পদ্ধতিগুলি (যেমন সমাধান এবং স্লারি প্রক্রিয়াগুলি) এবং গ্যাস-ফেজ পদ্ধতি সহ নিম্নচাপ পদ্ধতি দ্বারা উত্পাদিত হয়।
-এলডিপিই: এটি উচ্চ তাপমাত্রা এবং উচ্চ চাপের অধীনে একটি সূচনা হিসাবে অক্সিজেন বা পেরোক্সাইড সহ পলিমারাইজেশন-গ্রেড ইথিলিনের ফ্রি র‌্যাডিকাল পলিমারাইজেশন দ্বারা প্রাপ্ত হয়, এটি উচ্চ-চাপ পলিথিলিন নামেও পরিচিত।

কাঠামো এবং বৈশিষ্ট্য

- ঘনত্ব: এইচডিপিইর ঘনত্ব 0। 941 - 0।
- কঠোরতা এবং অনমনীয়তা: দীর্ঘ আণবিক চেইন এবং উচ্চ স্ফটিকতার কারণে এইচডিপিইর উচ্চ কঠোরতা এবং অনমনীয়তা রয়েছে; এলডিপিই স্বল্প আণবিক চেইন এবং কম স্ফটিকতার সাথে নরম এবং নমনীয়।
- রাসায়নিক প্রতিরোধের: এইচডিপিইতে ভাল রাসায়নিক প্রতিরোধের রয়েছে এবং এটি অনেক দ্রাবক এবং রাসায়নিকের ক্ষয়কে প্রতিহত করতে পারে; এলডিপিই তুলনামূলকভাবে দুর্বল রাসায়নিক প্রতিরোধের রয়েছে।
- গলানোর তাপমাত্রা: এইচডিপিইর গলানোর তাপমাত্রা 126 - 135 ডিগ্রির মধ্যে থাকে এবং এলডিপিইর সাধারণত 105 - 115 ডিগ্রি হয়।
- যান্ত্রিক শক্তি: এইচডিপিইতে ভাল যান্ত্রিক শক্তি রয়েছে, যেমন উচ্চ টেনসিল, নমন, সংবেদনশীল এবং শিয়ার শক্তি; এলডিপিইর তুলনামূলকভাবে দুর্বল যান্ত্রিক শক্তি রয়েছে।
- আর্দ্রতা এবং জলরোধী কর্মক্ষমতা: এইচডিপিইতে জল, জলীয় বাষ্প এবং বাতাসে কম পরিমাণে ব্যাপ্তিযোগ্যতা রয়েছে, কম জল শোষণ, ভাল আর্দ্রতা এবং গ্যাস বাধা বৈশিষ্ট্য সহ; এলডিপিইতে তুলনামূলকভাবে দুর্বল আর্দ্রতা এবং গ্যাস বাধা বৈশিষ্ট্য রয়েছে।

চেহারা

- এইচডিপিই: এর মূল অবস্থায় এটি দুধযুক্ত সাদা এবং তুলনামূলকভাবে কম স্বচ্ছতার সাথে একটি পাতলা ক্রস-বিভাগে একটি নির্দিষ্ট পরিমাণে স্বচ্ছ প্রদর্শিত হয়।
- এলডিপিই: এটি একটি নিস্তেজ পৃষ্ঠ এবং স্বচ্ছতার একটি নির্দিষ্ট ডিগ্রি সহ দুধযুক্ত সাদা গোলাকার কণাগুলির আকারে।

প্রসেসিং পারফরম্যান্স

- এইচডিপিই: এটির জন্য তুলনামূলকভাবে উচ্চ প্রসেসিং তাপমাত্রা প্রয়োজন, সাধারণত প্রায় 180 ডিগ্রি, এবং এক্সট্রুশন, ব্লো মোল্ডিং, ইনজেকশন ছাঁচনির্মাণ এবং ঘূর্ণন ছাঁচনির্মাণের মতো বিভিন্ন প্রক্রিয়াকরণ পদ্ধতির জন্য উপযুক্ত।
- এলডিপিই: এটিতে কম প্রসেসিং তাপমাত্রা রয়েছে, প্রায় 160 ডিগ্রি, এবং ইনজেকশন ছাঁচনির্মাণ, এক্সট্রুশন, ব্লো ছাঁচনির্মাণ, ঘূর্ণন ছাঁচনির্মাণ এবং অন্যান্য প্রক্রিয়াগুলির জন্য প্রযোজ্য ভাল গঠনযোগ্যতা রয়েছে।